特許

J-GLOBAL ID：200903017533723034

蒸着マスク、蒸着方法、有機ELパネルの製造方法および有機EL表示パネル

発明者： 丹 博樹 ,  安彦 浩志
出願人/特許権者： 東北パイオニア株式会社
代理人 (2件)： 小橋 信淳 ,  小橋 立昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-381922
公開番号（公開出願番号）：特開2004-214015
出願日： 2002年12月27日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：

【課題】マスク蒸着において、蒸着マスクを基板に対して一定の間隔を保持しながら近接させた状態で設置するにあたって、作業性が良好で、蒸着マスクの着脱時に蒸着膜や他の構成部材に損傷を与えないこと等の蒸着マスクを提供する。【解決手段】蒸着パターンに応じた開口部1aを形成した蒸着マスク1であって、蒸着マスク1の基板11が設置される側に板体自身を押圧変形させることにより形成される突出部1bを設ける。それにより、基板11に対し一定の間隔を保持しながら近接させて蒸着マスク1を設置する。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

基板を覆う板体に蒸着パターンに応じた開口部を形成した蒸着マスクであって、前記基板と前記板体との間隙を一定に保つために、前記板体に、該板体自身の前記基板側表面を突出させる突出部を設けたことを特徴とする蒸着マスク。

IPC (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  H05B33/14

FI (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/14 A

Fターム (12件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03