特許
J-GLOBAL ID：200903017541904650
微粒子分散型非線形光学材料の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-186115
公開番号（公開出願番号）：特開2001-013536
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】 所望の良好な非線形光学特性を有する非線形光学材料を再現性良く製造することができる微粒子分散型非線形光学材料の製造方法を提供する。【解決手段】 母材たる基板1の表面に微粒子を構成する物質からなる薄膜2を形成し、次に、薄膜2の表面にレジスト膜3を形成し、該レジスト膜3に所定の微粒子の形状に近似したパターンの露光を施し、該レジスト膜3を現像してレジストパターン3aを形成し、次に、レジストパターン3aをマスクにして薄膜2にエッチング処理を施して微粒子パターンを形成し、次に、レジストパターン3aを除去することによって母材に微粒子2aが分散されてなる非線形光学材料を製造する。
請求項（抜粋）：
母材に微粒子が分散されてなる非線形光学材料を製造する微粒子分散型非線形光学材料の製造方法において、母材表面に微粒子を構成する物質からなる薄膜を形成し、次に、前記薄膜の表面にレジスト膜を形成し、該レジスト膜に所定の微粒子の形状に近似したパターンの露光を施し、該レジストを現像してレジストパターンを形成し、次に、前記レジストパターンをマスクにして前記薄膜にエッチング処理を施して微粒子パターンを形成し、次に、前記レジストパターンを除去することによって母材に微粒子が分散されてなる非線形光学材料を製造することを特徴とする微粒子分散型非線形光学材料の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/355 501
, G02F 1/355
G02F 1/355 501
, G02F 1/355
2K002AB09
, 2K002BA01
, 2K002CA02
, 2K002CA13
, 2K002CA23
, 2K002DA04
, 2K002DA20
, 2K002EA04
, 2K002FA01
, 2K002FA03
, 2K002FA05
, 2K002FA06
, 2K002FA07
, 2K002FA17
, 2K002FA18
, 2K002FA19
, 2K002FA21
, 2K002HA33
