特許
J-GLOBAL ID：200903017543925905
ガスセンサおよびそれを用いたガス濃度測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-030647
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220040
出願日： 1995年02月20日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】取扱い時および使用中の金属酸化物半導体膜の剥離がなく安定した特性を得ることができるガスセンサおよびそれを利用したガス濃度測定方法を提供する。【構成】雰囲気中の特定のガス成分の濃度を測定するための装置であって、基材と2、この基材2上に設けられた金属酸化物半導体膜4とからなるセンサ素子1を有するガスセンサにおいて、前記金属酸化物半導体膜4を保持する基材2を多孔質材料から構成する。また、上述した構造のガスセンサを用いて、前記金属酸化物半導体膜4に特定のガスが吸着した時の電気抵抗値の変化からガス濃度を測定する。
請求項（抜粋）：
雰囲気中の特定のガス成分の濃度を測定するための装置であって、基材と、この基材上に設けられた金属酸化物半導体膜とからなるセンサ素子を有するガスセンサにおいて、前記金属酸化物半導体膜を保持する基材が多孔質材料からなることを特徴とするガスセンサ。
引用特許：
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