特許

J-GLOBAL ID：200903017552863750

マスク

発明者： 石川 恵美子 ,  松本 真吾 ,  佐藤 淳
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-320851
公開番号（公開出願番号）：特開2004-154209
出願日： 2002年11月05日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】防塵、花粉の吸い込みを軽減させ、なおかつ着用快適性を損なわないマスクを提供する。【解決手段】カバーファクター1600以上の織物もしくはカバーファクター35以上の編物が表層、内層に粗密度織物を4〜10枚積層した状態となるように配置されたマスク。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

カバーファクター1600以上の織物が表層となるように配置されたことを特徴とするマスク。

IPC (3件)：

A62B18/02 ,  B01D39/08 ,  B01D39/14

FI (3件)：

A62B18/02 C ,  B01D39/08 Z ,  B01D39/14 B

Fターム (13件)：

2E185AA07 ,  2E185BA01 ,  2E185BA07 ,  2E185CC32 ,  2E185CC73 ,  4D019AA01 ,  4D019BA12 ,  4D019BA13 ,  4D019BB02 ,  4D019BB10 ,  4D019BC07 ,  4D019BD01 ,  4D019CB04