特許
J-GLOBAL ID：200903017553596012
帯電装置及びそれを用いたプロセスカートリッジ
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-157178
公開番号（公開出願番号）：特開2002-351195
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：
【要約】【課題】 帯電効率を高め、帯電に必要なエネルギーを極力減らすと共に、オゾンの発生を低減し、非放電、非接触にて帯電を行い、長寿命の帯電装置及びそれを用いたプロセスカートリッジを提供する。【解決手段】 導電性支持体(100)上に負性電子親和力を持つ物質によって膜(101)を形成し、被帯電部材(103)と非接触に配置する。曲率を持つ被帯電部材(103)に対しては、被帯電部材(103)との間隙が一定となるような曲率を帯電装置(104)に持たせる。また、負性電子親和力を持つ物質としてDLCを用いる。さらに、本発明の帯電装置(104)を帯電手段(105)として用い、感光体(107)と、現像手段(106)、クリーニング手段(108)より選ばれる少なくとも一つの手段を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジとして形成する。
請求項（抜粋）：
被帯電部材を帯電させる帯電部材を配置する帯電装置において、前記帯電部材が、導電性の支持体上に負性電子親和力を持つ物質によって膜を形成することを特徴とする帯電装置。
Fターム (24件)：
2H200FA07
, 2H200FA08
, 2H200GA23
, 2H200GA32
, 2H200GA34
, 2H200GA44
, 2H200GB12
, 2H200HA13
, 2H200HA20
, 2H200HA28
, 2H200HB14
, 2H200HB20
, 2H200HB43
, 2H200HB45
, 2H200HB46
, 2H200HB47
, 2H200HB48
, 2H200LA07
, 2H200LC06
, 2H200MA06
, 2H200MB10
, 2H200MC20
, 2H200NA02
, 2H200NA09
