特許
J-GLOBAL ID：200903017554687755
金属酸化物薄膜パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
広瀬 章一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-349973
公開番号（公開出願番号）：特開平6-172068
出願日： 1992年12月03日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：
【要約】【目的】 簡単な金属酸化物薄膜パターンの形成方法の提供【構成】 金属酸化物形成用ゾル-ゲル液を基本に塗布乾燥後電子線で描画して硬化し、残余部分をエッチングで除去する。
請求項（抜粋）：
一つの金属のアルコキシド、アセチルアセトナート錯体、有機酸塩、硝酸塩の一つまたは混合物を溶媒に溶解してから部分的に加水分解したゾル-ゲル液を基板上に塗布し乾燥して薄膜を形成し、目的パターンに従って電子線で描画してパターン部分を緻密化した後に、エッチングによって非パターン部分を除去することからなる単一金属酸化物薄膜パターンの形成方法。
IPC (3件)：
C04B 41/91
, C01G 1/02
, C23C 18/12
