特許

J-GLOBAL ID：200903017584290124

ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法

発明者： 青山 武嗣 ,  後藤 寿一
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-320318
公開番号（公開出願番号）：特開2004-155669
出願日： 2002年11月01日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】供給管に逆流させることなく4級化剤を安定に供給することができるうえ、反応液中への4級化剤の溶解性に優れ、さらに高生産性で高純度のジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩を製造することができる方法の提供。【解決手段】反応器に、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、4級化剤及び水を連続して供給すると共に、上記反応器中の反応液を連続して抜き出すジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法において、前記4級化剤をエゼクターにより供給するジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

反応器に、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、4級化剤及び水を連続して供給すると共に、上記反応器中の反応液を連続して抜き出すジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法において、前記4級化剤をエゼクターにより供給することを特徴とするジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法。

IPC (2件)：

C07C67/297 ,  C07C69/54

FI (2件)：

C07C67/297 ,  C07C69/54 Z

Fターム (9件)：

4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD21 ,  4H006KA30 ,  4H006KC14 ,  4H006KE00