特許

J-GLOBAL ID：200903017588039817

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

発明者： 脇 義晴 ,  藤沢 政泰 ,  磯野 千博
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 富田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-159176
公開番号（公開出願番号）：特開平7-014123
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：

【要約】【目的】本発明は、薄膜磁気ヘッドの浮上面において、磁性膜の端面が、基板の端面よりも突出した薄膜磁気ヘッドを効率よく製造する方法を提供する。【構成】基板102と、金属元素Mを含む材料で形成された磁性膜101とを有する薄膜磁気ヘッドの製造方法である。基板102上に、磁性膜101を成膜し、基板102および磁性膜101の端面を、金属元素Mの水酸化物を含む砥粒16を用いて、研磨し、これにより浮上面を形成する。【効果】本発明にかかる薄膜磁気ヘッドを使用すれば、磁気ディスクの霧区ビット長を大幅に低減することができ、記録密度の高い磁気ディスク装置を得ることができる。

請求項（抜粋）：

基板と、金属元素Mを含む材料で形成された磁性膜とを有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記基板上に、前記金属元素Mを含む材料により前記磁性膜を成膜し、前記基板および磁性膜の端面を、前記金属元素Mの水酸化物を含む砥粒を用いて、研磨することにより浮上面を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。