特許
J-GLOBAL ID:200903017589609323

足浴器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-123459
公開番号(公開出願番号):特開2001-299871
出願日: 2000年04月25日
公開日(公表日): 2001年10月30日
要約:
【要約】【課題】 足載せ台を配置する際に、面を気にすることなく、また、誤配置することなく配置できる。【解決手段】 水を溜める浴槽1と、浴槽1内のお湯を加熱したり、保温したりするための加熱手段と、浴槽1底部に配置した足載せ台32とを有した足浴器である。足載せ台32が浴槽1底部に上下方向を逆にして設置可能である。
請求項(抜粋):
水を溜める浴槽と、浴槽内のお湯を加熱したり、保温したりするための加熱手段と、浴槽底部に配置した足載せ台とを有した足浴器において、足載せ台が浴槽底部に表裏方向を逆にして設置可能であることを特徴とする足浴器。
IPC (3件):
A61H 35/00 ,  A61H 9/00 ,  A61H 23/00 521
FI (3件):
A61H 35/00 F ,  A61H 9/00 ,  A61H 23/00 521
Fターム (24件):
4C074LL01 ,  4C074NN04 ,  4C074QQ23 ,  4C074QQ31 ,  4C074RR04 ,  4C094AA02 ,  4C094DD14 ,  4C094DD37 ,  4C094EE11 ,  4C094EE20 ,  4C094EE33 ,  4C094GG03 ,  4C100AC04 ,  4C100AC08 ,  4C100AD04 ,  4C100BB03 ,  4C100BB10 ,  4C100BC11 ,  4C100CA02 ,  4C100CA16 ,  4C100DA11 ,  4C100EA06 ,  4C100EA09 ,  4C100EA20

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