特許
J-GLOBAL ID:200903017600870080

レーザ光源装置、レーザ装置、レーザ出射方法およびレーザ光源装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 外川 英明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-135752
公開番号(公開出願番号):特開2002-329935
出願日: 2001年05月07日
公開日(公表日): 2002年11月15日
要約:
【要約】【課題】 レーザ光の集光性能を向上させること。【解決手段】 積層される半導体レーザアレイ12と、前記半導体レーザアレイ12から出射されたレーザ光をコリメートするために前記各半導体レーザアレイ12ごとに配設される複数のコリメートレンズ16と、 前記各コリメートレンズ16によりコリメートされた各レーザ光が互いに平行になるように、少なくとも一つの前記コリメートレンズに対応して配設されるウェッジプリズム18とを備えていることを特徴とするレーザ装置10。
請求項(抜粋):
活性層に沿って複数の発光部を備える半導体レーザアレイを前記活性層と垂直な方向に複数積層した半導体レーザ光源と、前記各発光部から出射されたレーザ光をコリメートするために前記各半導体レーザアレイごとに配設される複数のコリメート手段と、前記各コリメート手段によりコリメートされた各レーザ光が互いに平行になるように、少なくとも一つの前記コリメート手段に対応して配設されるレーザ光偏向手段とを備えていることを特徴とするレーザ光源装置。
IPC (3件):
H01S 5/40 ,  G02B 3/00 ,  G02B 27/00
FI (3件):
H01S 5/40 ,  G02B 3/00 A ,  G02B 27/00 V
Fターム (9件):
5F073AB04 ,  5F073AB27 ,  5F073AB28 ,  5F073BA09 ,  5F073EA18 ,  5F073EA24 ,  5F073FA08 ,  5F073FA11 ,  5F073FA26

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