特許
J-GLOBAL ID:200903017602623250
レーザCVD装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小橋川 洋二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-150134
公開番号(公開出願番号):特開平10-324973
出願日: 1997年05月23日
公開日(公表日): 1998年12月08日
要約:
【要約】【課題】 降り積もり状堆積の抑制と空気混入防止とを図り、パージガスによってもガスカーテンに偏りを生じないようにする。【解決手段】 レーザCVD装置は、レーザ光源と、このレーザ光源によるレーザ光をステージ上に配置した基板6上の所望の照射部に照射すると共にこの照射部を観察し得る照射観察ユニットと、基板6上の照射部にCVD原料ガスを供給するガス供給ユニットと、基板6上の照射部を覆うと共に前記レーザ光を導入する窓9を有し、照射部に向けて原料ガスの吹き出しノズル8を備え、照射部を中心とした円周に沿い吸込み口4を備えたガス導入部10とを有する。原料ガスの吹き出しノズル8の先端間近位置に原料ガスの吹き出し方向と逆方向のガス吹き出しを行う逆方向ノズル7を設けた。
請求項(抜粋):
レーザ光源と、このレーザ光源によるレーザ光をステージ上に配置した基板上の所望の照射部に照射すると共にこの照射部を観察し得る照射観察ユニットと、前記基板上の照射部にCVD原料ガスを供給するガス供給ユニットと、前記基板上の照射部を覆うと共に前記レーザ光を導入する窓を有し、前記照射部に向けて原料ガスの吹き出しノズルを備え、更に前記照射部を中心とした円周に沿い吸込み口を備えたガス導入部とを有するレーザCVD装置において、前記原料ガスの吹き出しノズルの先端間近位置に前記原料ガスの吹き出し方向と逆方向のガス吹き出しを行う逆方向ノズルを備えたことを特徴とするレーザCVD装置。
IPC (6件):
C23C 16/44
, C23C 16/48
, H01L 21/205
, H01L 21/3205
, H01S 3/00
, H01L 21/027
FI (6件):
C23C 16/44 D
, C23C 16/48
, H01L 21/205
, H01S 3/00 B
, H01L 21/88 Z
, H01L 21/30 502 W
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