特許
J-GLOBAL ID:200903017604555650

透明導電膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松井 光夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-137005
公開番号(公開出願番号):特開平6-320661
出願日: 1993年05月17日
公開日(公表日): 1994年11月22日
要約:
【要約】【目的】 低抵抗でかつ高透過率の透明導電膜を得る方法を提供する。【構成】 プラッスチック基板の熱劣化温度以下の温度で、基板上に透明導電層を成膜した後、80〜150°C未満の温度かつ1トール以下の真空度にて、15分間以上熱処理する。
請求項(抜粋):
プラスチック基板上に少なくとも透明導電層が設けられた透明導電膜の製造方法において、プラッスチック基板の熱劣化温度以下の温度で基板上に透明導電層を設けた後、80〜150°C未満の温度かつ1トール以下の真空度にて15分間以上熱処理することを特徴とする方法。
IPC (3件):
B32B 9/00 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 27/06

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