特許
J-GLOBAL ID：200903017631031019
弾性表面波装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮▼崎▲ 主税 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-283228
公開番号（公開出願番号）：特開平6-132760
出願日： 1992年10月21日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 表面保護用のパッシベーション膜を有する弾性表面波装置であって、パッシベーション膜による挿入損失の増大が生じ難く、周波数調整を容易に行い得る弾性表面波装置を得る。【構成】 R面サファイア基板11上にZnO薄膜12をエピタキシャル成長させ、その上にIDT13,14を形成し、さらにZnO薄膜よりなるパッシベーション膜15を形成し、該パッシベーション膜15が、IDT13,14上及び表面波伝搬路上においてエピタキシャル成長されているか、あるいは少なくともIDT13,14の電極指部分上を除く残りの領域においてエピタキシャル成長されている弾性表面波フィルタ10。
請求項（抜粋）：
単結晶基板と、該単結晶基板上にエピタキシャル成長された圧電性薄膜とを有する表面波基板と、前記表面波基板上に形成されたインターデジタルトランスデューサと、前記圧電性薄膜と同じ材料からなりかつ前記表面波基板上において前記インターデジタルトランスデューサを覆うようにエピタキシャル成長されて形成されている、パッシベーション膜とを備えることを特徴とする、弾性表面波装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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