特許

J-GLOBAL ID：200903017639437596

測定方法、測定装置および測定チップユニット

発明者： 木村 俊仁
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-086421
公開番号（公開出願番号）：特開2003-279478
出願日： 2002年03月26日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】 エバネッセント波を利用した測定装置において、測定装置毎の感度の個体差に起因する測定誤差を低減して測定精度を向上させる。【解決手段】 誘電体ブロック10と、光ビーム13を発生させるレーザ光源14と、光ビーム13を誘電体ブロック10と金属膜12との界面10bに対して種々の入射角が得られるように入射させる光学系15と、上記界面10bで全反射し平行光化された光ビーム13を検出する光検出手段17とを備えた測定装置において、予め屈折率既知の複数の参照試料液の全反射解消角を測定して校正曲線データを求めておき、この校正曲線データに基づいて金属膜12上の物質に対する測定の結果を校正する。

請求項（抜粋）：

誘電体ブロック、この誘電体ブロックの一面に形成された薄膜層、およびこの薄膜層の表面上に試料を保持する試料保持機構を備えてなる測定チップと、光ビームを発生させる光源と、前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られる入射角で入射させる入射光学系と、前記界面で全反射した光ビームの強度を測定する光検出手段とを備えてなる測定装置により前記試料の分析を行う測定方法において、屈折率が既知である複数種類の参照試料に対する測定を行い、前記試料に対する測定を行い、前記参照試料に対する測定の測定結果に基づいて、前記試料に対する測定の測定結果を校正することを特徴とする測定方法。

IPC (2件)：

G01N 21/27 ,  G01N 21/03

FI (2件)：

G01N 21/27 C ,  G01N 21/03 Z

Fターム (27件)：

2G057AA02 ,  2G057AB04 ,  2G057AB07 ,  2G057AC01 ,  2G057BA01 ,  2G057BB01 ,  2G057BB06 ,  2G059AA01 ,  2G059BB04 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059DD13 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE09 ,  2G059GG01 ,  2G059GG04 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM09 ,  2G059MM11 ,  2G059MM14 ,  2G059PP04