特許

J-GLOBAL ID：200903017651195409

セルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルムおよびこれを用いた光学フィルム

発明者： 椋木 康雄
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-045998
公開番号（公開出願番号）：特開2006-232892
出願日： 2005年02月22日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：

【課題】 表面欠陥のない光学フィルムに適した表面を鹸化したセルロースエステルフィルムを提供する。【解決手段】下記式(S-1)〜(S-3)で規定された要件をすべて満たすフィルム状のセルロースエステルの少なくとも一方の表面に強度10〜200keV、かつ、照射量10〜200kGyの電子線照射を行い、該電子線照射の後に前記フィルム状のセルロースエステルをアルカリ鹸化液で処理する工程を含む、セルロースエステルフィルムの製造方法。式(S-1) 2.50≦A+B≦3.00式(S-2) 0≦A≦2.5式(S-3) 0.5≦B≦3.00(式(S-1)〜(S-3)中、Aはアセチル基の置換度を、Bは炭素数3〜22の置換アシル基の置換度を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(S-1)〜(S-3)で規定された要件をすべて満たすフィルム状のセルロースエステルの少なくとも一方の表面に強度10〜200keV、かつ、照射量10〜200kGyの電子線照射を行い、該電子線照射の後に前記フィルム状のセルロースエステルをアルカリ鹸化液で処理する工程を含む、セルロースエステルフィルムの製造方法。 式(S-1) 2.50≦A+B≦3.00 式(S-2) 0≦A≦2.5 式(S-3) 0.5≦B≦3.00 (式(S-1)〜(S-3)中、Aはアセチル基の置換度を、Bは炭素数3〜22の置換アシル基の置換度を表す。)

IPC (2件)：

C08J 7/00 ,  G02B 5/30

FI (3件)：

C08J7/00 302 ,  C08J7/00 ,  G02B5/30

Fターム (12件)：

2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB33 ,  2H049BB49 ,  2H049BC22 ,  4F073AA01 ,  4F073AA14 ,  4F073BA03 ,  4F073BB01 ,  4F073CA42 ,  4F073EA41