特許

J-GLOBAL ID：200903017652476762

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 上西 一也 ,  河辺 保雅 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-214136
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034913
出願日： 1991年08月01日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 耐熱性に優れたレジストパターンが得られるポジ型フオトレジスト組成物とする。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び式(I)〜(III)で表される化合物を少なくとも1種含有する。【化1】

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)〜(III)で表される化合物を少なくとも1種含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R1、R2:同一でも異なっても良く、水素原子、置換もしくは非置換アルキル基、置換もしくは非置換アリール基、置換もしくは非置換アラルキル基、置換もしくは非置換アルコキシ基、置換もしくは非置換アリールオキシ基、置換もしくは非置換アラルキルオキシ基、置換もしくは非置換アシル基、置換もしくは非置換アシロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、-N(-R3,-R4)(R3,R4:H,C1〜C4のアルキル基)、もしくは【化2】ここで、X:-C(=O)-,-S(=O)2-,-C(=S)-,-C(=O)O-,もしくは-SO3-、R:C1〜C4のアルキル基、アルコキシ基、もしくはアシル基、を表す、a〜f:0もしくは1〜3の整数、但し、1≦(a+b)を表す。【化3】ここで、R5、R6:同一でも異なっても良く、水素原子、置換もしくは非置換アルキル基、置換もしくは非置換フエニル基、置換もしくは非置換アラルキル基、置換もしくは非置換アルコキシ基、置換もしくは非置換アリールオキシ基、置換もしくは非置換アラルキルオキシ基、置換もしくは非置換アシル基、置換もしくは非置換アシロキシ基、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、もしくは【化4】但し、R5、R6の一方がフエニル基の場合他方は水酸基である、g〜j,o,p:0もしくは1〜4の整数、k〜n,q,r:0もしくは1〜3の整数、但し、1≦(g+k+m+i)を表す。【化5】ここで、R7,R8:同一でも異なっても良く、-CO-,-S(=O)2-,-C(=S)-,-C(=O)O-,-SO3-,もしくは置換もしくは非置換のアルキレン基、s,t:0もしくは1〜4の整数を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027