特許

J-GLOBAL ID：200903017657828004

水処理装置

発明者： 平山 照康 ,  丹羽 千明
出願人/特許権者： 清水建設株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-294594
公開番号（公開出願番号）：特開2000-107775
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：

【要約】【課題】 有機塩素化合物により汚染された汚染水を効率的かつ安価に浄化処理する。【解決手段】 汚染水を貯留する水槽1内に、略下半部が汚染水中に浸漬され略上半部が水面上に露出する状態で回転する回転板5を配設する。回転板の表面には有機塩素化合物を光化学反応によって分解する光触媒を吸着剤に担持せしめてなる吸着分解処理層7を形成する。水槽内の水面上には吸着分解処理層に対して光を照射するランプ(光源)8を設置する。吸着分解処理層における吸着剤として繊維状活性炭を用いる。汚染水の流れ方向に沿って回転板を多段に設ける。汚染水を曝気する曝気装置を設ける。有機塩素化合物を含むガスを水槽内の水面上に導入可能とする。2枚の回転板を互いに傾斜させて交差状態に組み合わせて用いる。

請求項（抜粋）：

有機塩素化合物により汚染された汚染水を浄化処理する装置であって、処理対象の汚染水を導入して貯留する水槽内に、水平な軸線を中心として回転自在とされて略下半部が汚染水中に浸漬され略上半部が水面上に露出する状態で回転する回転板を配設し、該回転板の表面には、処理すべき有機塩素化合物を吸着可能な吸着剤に対して該化合物を光化学反応によって分解可能な光触媒を担持せしめてなる吸着分解処理層を形成しておき、前記水槽内の水面上には前記回転板の表面に形成されている前記吸着分解処理層に対して光を照射して前記光触媒の光化学反応を促進せしめる光源を設置してなることを特徴とする水処理装置。

IPC (7件)：

C02F 1/72 101 ,  B01D 19/00 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/58

FI (7件)：

C02F 1/72 101 ,  B01D 19/00 F ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/58 A

Fターム (45件)：

4D011AA15 ,  4D011AB06 ,  4D011AD03 ,  4D024AA01 ,  4D024AA04 ,  4D024AB11 ,  4D024BA02 ,  4D024BB02 ,  4D024CA06 ,  4D024CA07 ,  4D024DA06 ,  4D024DB10 ,  4D024DB30 ,  4D037AA01 ,  4D037AA13 ,  4D037AB14 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4D037BA23 ,  4D037BB04 ,  4D037BB05 ,  4D037BB09 ,  4D037CA01 ,  4D038AA02 ,  4D038AA08 ,  4D038AB14 ,  4D038BA02 ,  4D038BB03 ,  4D038BB06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB20 ,  4D050AA02 ,  4D050AA13 ,  4D050AB19 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BC10 ,  4D050BD02 ,  4D050CA03 ,  4D050CA06 ,  4D050CA07 ,  4G069AA15 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CC33