特許
J-GLOBAL ID：200903017658872627
感光性レジスト組成物およびパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-178903
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036188
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 感光性レジスト組成物およびパターン形成方法に関し、KrFエキシマレーザーに適したSi含有ポジ型感光性レジスト組成物を提供する。【構成】 下記の化学構造を有する樹脂と光酸発生剤によって構成する。【化1】
請求項（抜粋）：
下記の化学構造を有する樹脂と光酸発生剤よりなる感光性レジスト組成物。【化1】
IPC (5件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004 503
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
, H01L 21/312
