特許

J-GLOBAL ID：200903017666883026

露光装置およびそれを用いた微細加工体の製造方法

発明者： 森内 昇 ,  白井 精一郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-305367
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148223
出願日： 1995年11月24日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】 微細加工が容易にできる露光装置およびそれを用いた半導体集積回路装置などの微細加工体の製造技術を提供する。【解決手段】 入力データに応じて光透過部または遮光部のパターンが変化するソフトマスク2を備えている露光装置であり、ソフトマスク2におけるパターン形成部3に例えば反射型液晶素子を使用して、パターン形成部3に入力データを印加することにより転写用の光5のパターンを制御し、ステージ9にセットされている被露光基板であるウエハ11の表面のフォトレジスト膜10にパターンを転写するものである。

請求項（抜粋）：

入力データに応じて光透過部または遮光部のパターンが変化するソフトマスクと、前記ソフトマスクに光を照射する光源と、前記光を制御する結像光学系と、被露光基板をセットするステージとを有する露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 515 F ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 518