特許

J-GLOBAL ID：200903017672595148

炭素材料薄膜の製造方法

発明者： 前田 義明
出願人/特許権者： NOK株式会社
代理人 (2件)： 吉田 俊夫 ,  吉田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-236314
公開番号（公開出願番号）：特開2007-051018
出願日： 2005年08月17日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：

【課題】炭素材料の溶媒中における分散性を向上させて、炭素材料としてカーボンナノチューブを用いた場合にあってもそれの破断がみられず、かつ大容量、短時間で薄膜形成が可能な炭素材料の製膜方法を提供する。【解決手段】炭素材料を、塩基性高分子型分散剤を添加した炭化水素系溶媒中に分散させ、この溶媒中で被被覆材を陽極として電圧を印加し、陽極材表面上に炭素材料薄膜を形成する際、非プロトン溶媒中への分散を対向衝突分散処理によって行う。対向衝突分散処理は、噴流衝合装置を用いて行われる。

請求項（抜粋）：

炭素材料を、塩基性高分子型分散剤を添加した非プロトン性溶媒中に分散させ、この溶媒中で被被覆材を陽極として電圧を印加し、陽極材表面上に炭素材料薄膜を形成させるに際し、非プロトン性溶媒中への分散を対向衝突分散処理によって行うことを特徴とする炭素材料薄膜の製造方法。

IPC (1件)：

C01B 31/02

FI (1件)：

C01B31/02 101F

Fターム (6件)：

4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146AB07 ,  4G146CB10 ,  4G146CB17 ,  4G146CB35