特許

J-GLOBAL ID：200903017673752450

露光装置

発明者： 熊澤 雅人 ,  加藤 欣也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-345619
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183204
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】 スループットを低下させることなく良好な結像性能をもって、大きな露光領域を一括して走査露光することのできる露光装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の露光装置は、投影光学系に対して第1の基板および第2の基板を相対的に移動させて前記第1の基板上に形成されたパターンを前記投影光学系を介して前記第2の基板上に投影露光する露光装置において、前記投影光学系は、前記第1の基板に形成されたパターンの等倍正立像を前記第2の基板上に形成する、少なくとも像側がテレセントリックな複数の投影光学ユニットからなり、前記複数の投影光学ユニットの各々を介して前記第2の基板上に形成された複数の露光領域の前記移動方向に沿った長さの総和が前記移動方向と直交する方向に亘り実質的に一定になるように制御するための制御手段とを備えていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

投影光学系に対して第1の基板および第2の基板を相対的に移動させて前記第1の基板上に形成されたパターンを前記投影光学系を介して前記第2の基板上に投影露光する露光装置において、前記投影光学系は、前記第1の基板に形成されたパターンの等倍正立像を前記第2の基板上に形成する、少なくとも像側がテレセントリックな複数の投影光学ユニットからなり、前記複数の投影光学ユニットの各々を介して前記第2の基板上に形成された複数の露光領域の前記移動方向に沿った長さの総和が前記移動方向と直交する方向に亘り実質的に一定になるように制御するための制御手段とを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03B 27/53 ,  G03F 7/20 521