特許
J-GLOBAL ID：200903017677128319
残留応力測定法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-204402
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048069
出願日： 1996年08月02日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】 表面上及び深さ方向に応力分布があっても、表面残留応力が測定でき、測定に必要な装置が比較的小型で、測定物への接近性が良い残留応力測定法を提供することを目的とする。【解決手段】 残留応力を測定したい部材1の測定したい表面位置に3要素ひずみゲージ2貼付し、その後、前記ゲージ2を貼付した表層3を薄く剥離させることによって、前記ゲージ2に現れるひずみ変化から残留応力を求めることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
残留応力を測定したい部材の測定したい表面位置に3要素ひずみゲージを貼付し、その後、前記ゲージを貼付した表層を薄く剥離させることによって、前記ゲージに現れるひずみ変化から残留応力を求めることを特徴とする残留応力測定法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01L 1/00 D
, G01B 7/18 G
