特許

J-GLOBAL ID：200903017682564305

パターン欠陥検査方法とその装置

発明者： 井上 広
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-261914
公開番号（公開出願番号）：特開2001-082947
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】 パターンの欠陥を検査する技術で、センサデータと参照データのレべル差を解消し、欠陥検出の際の誤認識を無くして、正確な欠陥検査を行う技術を提供すること。【解決手段】 比較回路4、4aでの参照データとセンサデータとの比較は、参照データ又はセンサデータから領域切出し回路5、5aで領域を切出した後、その領域内の光量積算結果により、領域を切出したデータのレべルをレベル変換回路8、8aで変換してレベル比較回路9、9aで比較する。

請求項（抜粋）：

被検査体に形成されたパターンを撮像して得られるセンサデータと、前記パターンのCADデータから得られた参照データとを比較して前記パターンの欠陥を検査するパターン欠陥検査方法において、前記参照データと前記センサデータとの比較は、前記参照データ又は前記センサデータから領域を切出した後、その領域内の光量積算結果に基づいて前記領域を切出した該データのレべルを変換しておこなうことを特徴とするパターン欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G01B 15/00 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/956

FI (3件)：

G01B 15/00 A ,  G01B 11/30 A ,  G01N 21/956 A

Fターム (37件)：

2F065AA45 ,  2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB27 ,  2F065CC18 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ36 ,  2F065RR05 ,  2F065RR08 ,  2F065SS04 ,  2F065TT03 ,  2F065UU05 ,  2F067AA45 ,  2F067CC16 ,  2F067LL16 ,  2F067RR12 ,  2F067SS01 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051BA05 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051EA08 ,  2G051EA09 ,  2G051EA12 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EB09 ,  2G051ED04 ,  2G051ED07