特許
J-GLOBAL ID：200903017685037152
ステレオリソグラフ装置および使用方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-000111
公開番号（公開出願番号）：特開平6-039928
出願日： 1993年01月04日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：
【要約】【目的】 解像度を低下させることなく、処理能力が増大せしめられた、広範囲のステレオリソグラフ樹脂に適合しうるステレオリソグラフ装置を提供する。【構成】 ステレオリソグラフ装置10は、バット12と、該バット内の作業面16と、該バット内の液14の液面の高さを制御するための上下移動機構18と、放射を発射するための照明源30と、領域アレイ変形可能ミラーデバイス32と、を含む。照明源30は、ステレオリソグラフ液14を硬化せしめる作用を有する放射を発射し、一方、変形可能ミラーデバイス32は、入射放射を前記液14の表面上へ反射する動作を行ないうる。変形可能ミラーデバイス32は、前記液14の層全体を、短い1露光間隔内において硬化せしめることができ、解像度を低下させることなく処理能力を増大せしめうる。
請求項（抜粋）：
ステレオリソグラフ液を収容するためのバットと、該バット内の作業面と、該バット内の前記液の液面の高さを前記作業面に対して制御するための上下移動機構と、少なくとも1つの露光ヘッドであって、それぞれの該露光ヘッドが、前記液を硬化せしめる作用を有する放射を発射するための照明源と、印加された信号に応答して前記放射を選択的に反射し、前記液の表面上に像を形成するための領域アレイ変形可能ミラーデバイスと、を含む前記少なくとも1つの露光ヘッドと、を含む、ステレオリソグラフ装置。
IPC (5件)：
B29C 67/00
, B29C 35/08
, G03F 7/20
, G02B 26/08
, B29K105:32
