特許

J-GLOBAL ID：200903017691574801

高純度シリカガラスの製造方法

発明者： 田中 秀二 ,  青山 武 ,  古沢 道隆
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-137215
公開番号（公開出願番号）：特開平8-002929
出願日： 1994年06月20日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はゾル-ゲル法による高純度シリカガラスの製法を安価に行なうことができる方法の提供を目的とするものである。【構成】 本発明による高純度シリカガラスの製造方法は、テトラアルコキシシランをアンモニア水またはアンモニア、アルコールを含有する水溶液中で連続的に加水分解してシリカゾルを得る加水分解工程、このシリカゾルを固液分離し、洗浄してウエットゲルとする工程、このウエットゲルをガラス化、粉砕、篩別、浮遊選鉱後に塩酸処理する工程、浮遊選鉱工程およびフッ酸洗浄工程などの湿式精製工程で使用される純水を比抵抗が5〜17MΩ・cmのものとしてなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

テトラアルコキシシランをアンモニア水またはアンモニア、アルコールを含有する水溶液中で連続的に加水分解してシリカゾルを得る加水分解工程、このシリカゾルを固液分離し、洗浄してウエットゲルとする工程、このウエットゲルをガラス化、粉砕、篩別、浮遊選鉱後に塩酸処理する工程、浮遊選鉱工程およびフッ酸洗浄工程の湿式精製工程で使用される純水を比抵抗が5〜17MΩ・cmのものとしてなることを特徴とする高純度シリカガラスの製造方法。

IPC (3件)：

C03B 8/02 ,  C01B 33/18 ,  C03C 3/06