特許

J-GLOBAL ID：200903017697320879

ポリスチレンの製造法

発明者： ヘルマン ガウゼポール ,  ヴォルフガング フィッシャー ,  ヴォルフガング ロート ,  ライナー ティーレ
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-116820
公開番号（公開出願番号）：特開平10-045811
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【課題】 可能な空時収量およびプラント費用の点で経済的であり、モノマーまたは開始剤の多重の計量供給なしに比較的広範囲に亘って望ましいポリマーの分子量分布に影響を及ぼすことができ、かつ低分子量のポリマーを極めて僅かだけ形成させるようなスチレンの連続的陰イオン重合法。【解決手段】 金属アルキルを基礎とする触媒を用いてスチレンモノマーを連続的に陰イオン重合させるポリスチレンの製造法の場合に、スチレンモノマーをループ型密閉管として配置された本質的に恒温操作される循環型反応器に供給し、この場合この反応混合物の循環速度および滞留時間は、モノマーの変換率が少なくとも50%に達しかつ重合が本質的に逆混合のない管状反応器中で完結されるように設定されている。

請求項（抜粋）：

金属アルキルを基礎とする触媒を用いてスチレンモノマーを連続的に陰イオン重合させることによってポリスチレンを製造する方法において、スチレンモノマーをループ型密閉管として配置された本質的に恒温操作される循環型反応器に供給し、この場合この反応混合物の循環速度および滞留時間は、モノマーの変換率が少なくとも50%に達しかつ重合が本質的に逆混合のない管状反応器中で完結されるように設定されていることを特徴とする、ポリスチレンの製造法。

IPC (3件)：

C08F 2/06 ,  C08F 2/00 ,  C08F112/08

FI (3件)：

C08F 2/06 ,  C08F 2/00 H ,  C08F112/08