特許
J-GLOBAL ID：200903017699495749
表示装置の表面基板処理膜とその製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-218919
公開番号（公開出願番号）：特開平8-083581
出願日： 1994年09月13日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：
【要約】【目的】表示装置の表面基体に反射防止/帯電防止/漏洩電磁界低減膜を形成する。【構成】表示装置の表面基板(基体)1と空気層4との間に高屈折率層2と低屈折率層3をこの順で形成して外来光の反射防止、静電気の帯電防止、または漏洩電磁界の低減を行うための表面基板処理膜において、前記高屈折率層2は、前記表面基板1側から前記低屈折率層3に向かって順次小となる密度分布を有し、前記低屈折率層3と共に前記表示基板側1から前記空気層4の間に屈折率が連続的に小さくなるグレーディッド型膜構造を形成した。
請求項（抜粋）：
表示装置の表面基板と空気層との間に高屈折率層と低屈折率層をこの順で形成して外来光の反射防止、静電気の帯電防止、または漏洩電磁界の低減を行うための表面基板処理膜において、前記高屈折率層は、前記表面基板側から前記低屈折率層に向かって順次小となる密度分布を有し、前記低屈折率層と共に前記表示基板側から前記空気層の間に屈折率が連続的に小さくなるグレーディッド型膜構造を形成してなることを特徴とする表示装置の表面基板処理膜。
IPC (4件)：
H01J 29/89
, G02B 1/11
, H01J 9/20
, H01J 29/88
