特許

J-GLOBAL ID：200903017701178500

工業用殺菌剤および工業的殺菌方法

発明者： 辻 勝次 ,  田中 優子
出願人/特許権者： 株式会社片山化学工業研究所
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-023422
公開番号（公開出願番号）：特開平11-222408
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】 殺菌対象系のpHにかかわらず、低添加量で種々の細菌に対する殺菌効果を顕著に発揮する工業用殺菌剤を提供することを課題とする。【解決手段】 特定のテトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム塩からなる第1成分と、ホルムアルデヒドと炭素数2〜6の脂肪族グリコールまたはそのモノアルキルエーテル(ただし、エーテル残基が炭素数1〜4のアルキル基である)との付加物からなる第2成分とを有効成分として含有することを特徴とする工業用殺菌剤により、上記の課題を解決する。

請求項（抜粋）：

一般式(I):[(CH2 OH)4 P+ ]n M(式中、nはMの原子価に等しく、Mは鉱酸陰イオン、ハロゲン陰イオンまたは炭素数1〜6の脂肪酸もしくは芳香族カルボン酸の陰イオン)で表されるテトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム塩からなる第1成分と、ホルムアルデヒドと炭素数2〜6の脂肪族グリコールまたはそのモノアルキルエーテル(ただし、エーテル残基が炭素数1〜4のアルキル基である)との付加物からなる第2成分とを有効成分として含有することを特徴とする工業用殺菌剤。

IPC (6件)：

A01N 57/20 ,  A01N 35/02 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 532 ,  C02F 1/50

FI (6件)：

A01N 57/20 J ,  A01N 35/02 ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 K ,  C02F 1/50 532 K ,  C02F 1/50 532 C