特許

J-GLOBAL ID：200903017703841711

スパッタリングターゲット

発明者： 渡辺 雄二 ,  大林 元太郎
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-247728
公開番号（公開出願番号）：特開平6-101032
出願日： 1992年09月17日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：

【要約】【構成】本発明は、少なくとも、カルコゲン化合物、酸化物および炭素(C)を含むスパッタリングターゲットであって、該ターゲットは、酸化物-炭素複合体と、カルコゲン化合物とを成型してなるものであることを特徴とするスパッタリングターゲットに関する。【効果】本発明のスパッタリングターゲットをスパッタリングして薄膜を形成する場合、形成された薄膜の組成がターゲットの組成と極めて良く一致し、所望の組成の薄膜が容易に形成できる。さらに、長期にわたるスパッタリングを行っても、ターゲット表面の組成が変化せずに、形成される薄膜の組成もほとんど変化しない。

請求項（抜粋）：

少なくとも、カルコゲン化合物、酸化物および炭素(C)を含むスパッタリングターゲットであって、該ターゲットは、酸化物-炭素複合体と、カルコゲン化合物とを成型してなるものであることを特徴とするスパッタリングターゲット。