特許
J-GLOBAL ID：200903017712025625
感光材料
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-196572
公開番号（公開出願番号）：特開平6-019136
出願日： 1992年06月30日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 紫外線や遠紫外線、X線、電子線等を光源とするLSI等の半導体素子製造用フォトリソグラフィーのレジストとして好適であって、ドライエッチング耐性が極めて強いため極めて薄い膜厚で使用でき、このため非常な高解像度と感光度を示すような感光材料を開発する。【構成】 フラーレンに感光基を付加することにより得られる感光材料により目的を達成できる。
請求項（抜粋）：
フラーレンに感光基を付加することにより得られる感光材料。
IPC (3件)：
G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
