特許

J-GLOBAL ID：200903017715732799

ファイバグレーティングの製造装置及びファイバグレーティングの製造方法

発明者： 横田 利夫 ,  佐久間 純
出願人/特許権者： 株式会社ウシオ総合技術研究所
代理人 (1件)： 長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-316424
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133640
出願日： 1999年11月08日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】 高スループットが得られ、所定の範囲内で波長の変化を連続的に行なうことができるファイバクレーティングの製造装置及び方法を提供すること。【解決手段】 狭帯域化された光を出力する基本波レーザ装置1aを備えた第1のコヒーレント光源1と、シーディング光により狭帯域化され、波長安定化された光を出力する可変波長レーザ2aを備えた第2のコヒーレント光源2が出力するレーザ光を和周波発生手段3または和周波発生手段3,4に入力する。和周波発生手段3,4は、波長が185〜250nmもしくは波長185〜213nmの和周波光を発生する。このレーザ光を二束干渉光学系に入力しファイバグレーティングを製造する。また、狭帯域化され、波長安定化された可変波長レーザ5が出力するレーザ光を、非線形光学結晶から構成される高調波発生手段6に入力して高調波光を発生させ上記波長の光を発生させるようにしてもよい。

請求項（抜粋）：

ファイバコアに屈折率変化を生じさせる、二束干渉光学系を備えたファイバグレーティング製造装置であって、上記製造装置の光源は、狭帯域化したレーザ光をシード光とした単一周波数発振の固体レーザ装置であることを特徴とするファイバグレーティングの製造装置。

IPC (2件)：

G02B 6/10 ,  G02B 5/18

FI (2件)：

G02B 6/10 C ,  G02B 5/18

Fターム (10件)：

2H049AA07 ,  2H049AA34 ,  2H049AA44 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62 ,  2H049AA63 ,  2H049AA66 ,  2H050AC82 ,  2H050AC84 ,  2H050AD00