特許

J-GLOBAL ID：200903017721472448

皺計測システム

発明者： 林 照次 ,  松木 智美
出願人/特許権者： 鐘紡株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-086535
公開番号（公開出願番号）：特開平5-253210
出願日： 1992年03月09日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：

【要約】【目的】 多面的且つ総合的な皮膚表面形態の分析を可能とする皺計測システムを構築する。【構成】 皺計測システムはレプリカを平行光で照明し陰影の状態を撮影するレプリカ撮影装置1と撮影された画像を加工処理し個々の影領域を抽出して粒子解析を行なう画像解析装置2とから構成されている。画像解析装置2はイメージプロセッサ6を含んでおり、個々の影領域の面積及び長さのデータを計測する。さらにホストコンピュータ7を備えており計測データに基いて個々の小皺の深さを算出するとともに、算出された深さデータから最大値を求める事により皺深さ解析を行なう。さらに面積データの垂直方向成分を合計し画像の測定領域平面積に対する比率を算出して皺量解析を行なう。加えて、個々の小皺を深さにより層別するとともに、層別毎に影領域の面積データの垂直方向成分を合計し画像の測定領域平面積に対する比率を算出して深さ別皺量分布解析を行なう。

請求項（抜粋）：

小皺のレプリカを平行光で照明し陰影の状態を撮影するレプリカ撮影装置と、撮影された画像を加工処理し個々の影領域を抽出して粒子解析を行なう画像解析装置とからなる皺計測システムにおいて、該画像解析装置は、個々の影領域の面積及び長さのデータを計測する手段と、計測データに基いて個々の小皺の深さを算出する手段と、算出された深さデータから最大値を求める事により皺深さ解析を行なう手段とを有する事を特徴とする皺計測システム。