特許
J-GLOBAL ID：200903017722601217
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-295956
公開番号（公開出願番号）：特開平8-138238
出願日： 1994年11月07日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】 ピンホールの原因となる炭素膜片粒子のもとである炭素膜が、プラズマ発生装置のプラズマ反応管の側壁に付着しない、磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】 プラズマ発生装置のプラズマ反応管の出口を非磁性支持体上に形成された強磁性金属薄膜表面に対面させ、不活性ガスからなるキャリヤーガスを該プラズマ発生装置の後端から該プラズマ反応管に導入し、該キャリヤーガスにRF電力を印加することにより不活性ガスのプラズマを生成し、次いで前記プラズマ反応管の出口近傍より炭化水素ガスを前記プラズマ反応管に導入して前記不活性ガスのプラズマとの混合プラズマとなし、該混合プラズマを該強磁性金属薄膜の表面に吹き付けることにより、該強磁性金属薄膜上にDLC膜を形成することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生装置のプラズマ反応管の出口を非磁性支持体上に形成された強磁性金属薄膜表面に対面させ、不活性ガスからなるキャリヤーガスを該プラズマ発生装置の後端から該プラズマ反応管に導入し、該キャリヤーガスにRF電力を印加することにより不活性ガスのプラズマを生成し、次いで前記プラズマ反応管の出口近傍より炭化水素ガスを前記プラズマ反応管に導入して前記不活性ガスのプラズマとの混合プラズマとなし、該混合プラズマを該強磁性金属薄膜の表面に吹き付けることにより、該強磁性金属薄膜上にDLC膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
