特許
J-GLOBAL ID：200903017731193032
マスクパターンデータ作成装置及びその作成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
島田 義勝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-366298
公開番号（公開出願番号）：特開平11-195581
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】【課題】 球面半導体上に正確なパターン露光を行うマスクパターンデータ作成装置及びその作成方法を提供すること。【解決手段】 光を照射する光源部2と、コリメータレンズ4と、該コリメータレンズ4の焦点に配置された空間フィルター5と、該空間フィルター5を第1焦点f1に一致させて配置し、且つ第2焦点f2に球状半導体10を配置する回転楕円ミラー6と、前記コリメータレンズ4と前記光源部2間に配置されたマスク3からなる露光装置をシュミレーションの対象とし、前記第2焦点f2に点光源12を設定すると共に、前記球状半導体10にパターンを設定して、前記点光源12からの光線を前記マスク3に向けて逆追跡し、前記パターンを前記マスク3に逆投影させるシュミレーションを実行し、求めた前記マスク3における前記パターンの逆投影データに基づいて、前記マスク3のパターンを作成する。
請求項（抜粋）：
所定のマスクパターンが形成されたマスクに対し、光又は荷電粒子ビームを照射し、そのマスクを透過した光又は荷電粒子ビームを、球状の露光対象物の中心点に集めることで表面上の任意位置に所望のパターンを形成する露光装置に対し、前記露光対象物の表面上に形成すべき所望のパターンデータを設定するデータ設定部と、前記露光対象物の中心点に想定した点光源と前記データ設定部によって設定されたパターンデータの形状とから、露光対象物の表面に投射すべき光又は荷電粒子ビームの、前記マスクに至るまでの照射経路を逆方向に求める経路演算部と、前記データ設定部によって設定されたすべてのパターンデータに対して前記経路演算部によって求められた経路から、前記露光対象物の表面上に形成すべき所望のパターンデータに対応するマスクパターンデータを作成するデータ作成部とを備えることを特徴とするマスクパターンデータ作成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, G03F 1/08 A
