特許

J-GLOBAL ID：200903017735316236

固体表面の洗浄装置

発明者： 小川 光博 ,  大森 寿朗
出願人/特許権者： 大陽酸素株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (2件)： 高田 守 (外2名) ,  大岩 増雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-052368
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144793
出願日： 1991年03月18日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：

【要約】【目的】この発明は、微細凍結粒子を噴射して、固体表面を洗浄する装置で、微細凍結粒子の噴射で除去された汚染物の再付着、および被洗浄物のダメージを防ぐことを目的とする。【構成】洗浄すべき基板(5) をステージ(15)にセットして回転させながら純水リンスノズル(10)により基板表面に水膜をつくる。ノズル(10)からスプレーされる純水は温度調節され、基板(5) へノズル(8) で噴射される凍結粒子(4) を一部溶解し、基板のダメージを防ぐ。

請求項（抜粋）：

微細凍結粒子を被洗浄物の表面に向けて噴射する噴射ノズルと、温度調節された純水を前記被洗浄物の表面に向けて噴射するリンスノズルと、前記被洗浄物を水平に保持し、かつ、回転を与えるステージとからなり、前記リンスノズルから噴射される純水により前記被洗浄物の表面に、回転数に応じた厚さの水膜を形成する固体表面の洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/02 ,  B08B 7/02