特許

J-GLOBAL ID：200903017753291739

ペーストパターン形成装置および液晶パネル製造装置

発明者： 池原 忠好
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-021845
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221698
出願日： 1997年02月04日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 基板上へのペースト塗布量を塗布開始点から塗布終了点まで任意の塗布量に制御し、塗布量の精度及び安定性を向上させる。【解決手段】 ペースト容器に設けられたノズルの吐出口と、ノズルに対向して保持された基板とのギャップを制御しながら、ペーストをノズルから吐出し、ノズルと基板とを水平方向に相対移動させて、基板上にペーストパターンを形成するペーストパターン形成装置で、所定の相対速度Vに対して任意のポイントP4からP5 の間で相対速度をV1 に変更することにより、ポイントP4 からP5 までの基板上への塗布量を、ポイントP1 からP3 間、P6 からP8 間に対して減少させる。

請求項（抜粋）：

ペースト容器に設けられたノズルの吐出口と該ノズルに対向して保持された基板とのギャップ値を制御しながら、該ペースト容器に充填されたペーストを吐出し、該ノズルと該基板とを水平方向に相対移動させて、該基板上に該ペーストによるパターンを形成するペーストパターン形成装置において、前記ノズルと前記基板との水平方向の相対移動速度をパターン形成中に変更することを特徴とするペーストパターン形成装置。

IPC (2件)：

G02F 1/1339 505 ,  H05K 3/10

FI (2件)：

G02F 1/1339 505 ,  H05K 3/10 D