特許
J-GLOBAL ID：200903017755586655
薄膜パターニング用基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-076979
公開番号（公開出願番号）：特開2000-353594
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 有機半導体膜や着色樹脂等の薄膜を形成する際、画素毎での膜厚のばらつきが著しく少ないEL素子やLED素子などの表示装置あるいはカラーフィルタなどを提供する。【解決手段】 基板上に、所定高さのバンクにより区切られた被塗布領域にインクジェット法により形成された薄膜層を有する薄膜素子において、バンクの幅をa、高さをc、被塗布領域の幅をb、薄膜層を形成する液体材料の液滴径をdとするとき、バンクを、a>d/4、d/2<b<5d、c>t<SB>0</SB>(t<SB>0</SB>)は薄膜層の膜厚、c>d/(2b)の条件を満足するように基板上に形成する。また、無機材料で構成されるバンク形成面に有機材料でバンクを形成し、導入ガスをフッ素系としフッ素過多の条件下でプラズマ処理を行い、バンクで囲まれる領域に薄膜材料液を充填して薄膜層を形成する。さらに、有機物で形成したバンクを有する基板に、酸素ガスプラズマ処理後、フッ素系ガスプラズマ処理を行う。
請求項（抜粋）：
インクジェット法により薄膜をパターニング形成するために用いられる、所定の高さのバンクおよび該バンクにより区切られた被塗布領域が面上に形成された薄膜パターニング用基板において、前記バンクの幅をa(μm)、その高さをc(μm)とし、前記被塗布領域の幅をb(μm)とし、かつ、薄膜層を形成する液体材料のインクジェット液滴径をd(μm)とするとき、前記バンクが、(d/2)<b<5dを満足するように形成されていることを特徴とする薄膜パターニング用基板。
IPC (10件)：
H05B 33/22
, G02B 5/20 101
, G09F 9/00 338
, G09F 9/30 310
, G09F 9/30 365
, G09F 9/33
, H01L 33/00
, H05B 33/10
, H05B 33/12
, H05B 33/14
H05B 33/22 Z
, G02B 5/20 101
, G09F 9/00 338
, G09F 9/30 310
, G09F 9/30 365 Z
, G09F 9/33 Z
, H01L 33/00 M
, H05B 33/10
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
