特許
J-GLOBAL ID:200903017760375700
細胞支持基材、培養装置および液体処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
増田 達哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-192390
公開番号(公開出願番号):特開2000-004870
出願日: 1998年06月23日
公開日(公表日): 2000年01月11日
要約:
【要約】【課題】細胞を短時間で効率よく、しかも高密度に支持できる細胞支持基材を提供すること。【解決手段】細胞支持基材4は、細胞を支持する細胞支持層7と、スキン層8とを有している。細胞支持層7には、大きい孔径を有する複数の巨大孔5と小さい孔径を有する複数の連通孔6とが形成されている。巨大孔5は、指状構造をしており、細胞支持基材4中に分布して存在している。巨大孔5の長手方向は、細胞支持基材4を通過する液が流れる方向と等しい。また、巨大孔5は、細胞支持基材4を貫通していない。連通孔6は、表面から内部に向かって孔径が減少するように形成されている。また、連通孔6の孔径は、目的細胞の径より大きい孔径から小さい孔径まで分布している。
請求項(抜粋):
細胞を支持する細胞支持基材であって、該細胞支持基材に複数の巨大孔が形成されているとともに、該細胞支持基材の一端面および前記巨大孔の内面から内部に向かって孔径が減少するような連通孔が形成されていることを特徴とする細胞支持基材。
IPC (3件):
C12M 1/00
, A61M 1/36 569
, C12M 3/00
FI (3件):
C12M 1/00 A
, A61M 1/36 569
, C12M 3/00 Z
Fターム (19件):
4B029AA02
, 4B029AA21
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029CC03
, 4B029CC08
, 4B029CC10
, 4B029DA06
, 4B029DF04
, 4B029DF05
, 4C077AA01
, 4C077AA07
, 4C077BB10
, 4C077CC06
, 4C077KK30
, 4C077LL02
, 4C077LL14
, 4C077LL16
, 4C077LL17
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