特許

J-GLOBAL ID：200903017776425040

投影露光装置

発明者： 白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-134007
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008157
出願日： 1994年06月16日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】 半導体素子等を製造するフォトリソグラフィ工程で使用される投影露光装置において、種々の瞳フィルターを切り換え使用しても、結像性能に大きな変化を与えないようにする。【構成】 レチクルRのパターンをウエハW上に投影するための投影光学系PLの瞳面に、交換コントローラ24を介して複数の瞳フィルター中の瞳フィルターPF1を配する。その瞳フィルターPF1に対応して、ロードアーム制御装置16等を介してディストーションを補正するためのフィルタ補正体CPをレチクルRと投影光学系PLとの間に設ける。別の瞳フィルターを使用するときにはそれに応じて別のフィルタ補正体を設置する。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスクを露光用の照明光で照射する照明手段と、前記照明光のもとで前記マスクのパターンの像を感光性の基板上に所定の結像特性で投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系内の瞳面、又は該瞳面の近傍の面に、互いに異なる量だけ前記マスクからの光の振幅分布、位相分布、及び偏光状態よりなる光学特性群の少なくとも1つを変化させる複数の光学フィルターの内の何れか1つを選択して配置する光学フィルター切り換え手段と;該光学フィルター切り換え手段により選択された光学フィルターに応じて、前記マスクと前記基板との間に、互いに異なる量だけ前記投影光学系による結像特性を補正する複数の結像特性補正部材の内の何れか1つを選択して配置する補正部材切り換え手段と;を備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527