特許
J-GLOBAL ID:200903017788243060

X線評価装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 樺山 亨 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-182474
公開番号(公開出願番号):特開平8-043325
出願日: 1994年08月03日
公開日(公表日): 1996年02月16日
要約:
【要約】【目的】100meV以下の分解能を有するX線分光器と高感度なX線検出器を用いて有機・無機の結晶やアモルファス物質の原子・電子構造等を評価することができるX線評価装置を提供する。【構成】本発明ではX線評価装置を、X線を分光するためのすれすれ入射反射防止膜(GIAR膜)5aを用いたX線分光器4と、試料7を保持すると共に相対的に移動させるマニピュレータ6と、試料7を通過又は反射したX線を検出するX線検出器8と、X線分光器4とマニピュレータ6とX線検出器8を内蔵した真空チャンバー1とにより構成した。【効果】GIAR膜を用いたX線分光器と試料用マニピュレータ及びX線検出器を高真空中に配置して用いたことにより、100meV以下の高分解能X線が得られ、かつそれを検出することができる。
請求項(抜粋):
X線を分光するためのすれすれ入射反射防止膜(GIAR膜)を用いたX線分光器と、試料を保持すると共に相対的に移動させるマニピュレータと、試料を通過又は反射したX線を検出するX線検出器と、前記X線分光器とマニピュレータとX線検出器を内蔵した真空チャンバーとにより構成したことを特徴とするX線評価装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • X線評価装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-211168   出願人:株式会社リコー
  • 特開昭59-108945
  • 特開平3-095445
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