特許
J-GLOBAL ID：200903017795804426

リン酸イオン含有排水の処理装置

発明者：
藤本 恵一

藤本 恵一 について

, 
森泉 雅貴

森泉 雅貴 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-266063
公開番号（公開出願番号）：特開2000-093993
出願日： 1998年09月21日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：
【要約】【課題】 不動態膜の生成を防止するとともに、リン除去効率を維持することができるリン酸イオン含有排水の処理装置を提供する。【解決手段】 嫌気槽を有する排水処理槽に備えられる処理装置P1であって、排水の流入口と流出口を有する排水処理室が、流通口を有する隔壁により区画される、鉄および/またはアルミニウムを含む少なくとも一対の電極を用いてリン酸イオンを含む排水中に鉄イオンおよび/またはアルミニウムイオンを電気化学的に溶出させる電解槽3と、該電解槽3の下流側に設けられる攪拌槽と、前記嫌気第二槽Bから電解槽3へ嫌気状態の排水を供給する供給手段5とからなる。
請求項（抜粋）：
嫌気槽を有する排水処理槽に備えられる処理装置であって、排水の流入口と流出口を有する排水処理室が、流通口を有する隔壁により区画される、鉄および/またはアルミニウムを含む少なくとも一対の電極を用いてリン酸イオンを含む排水中に鉄イオンおよび/またはアルミニウムイオンを電気化学的に溶出させる電解槽と、該電解槽の下流側に設けられる攪拌槽と、前記嫌気槽から電解槽へ嫌気状態の排水を供給する供給手段とからなるリン酸イオン含有排水の処理装置。
IPC (6件)：
C02F 3/30 ,  C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/58 ,  C02F 3/00
FI (5件)：
C02F 3/30 C ,  C02F 1/52 K ,  C02F 1/58 R ,  C02F 3/00 B ,  C02F 1/46 102
Fターム (20件)：
4D027AB03 ,  4D027BA04 ,  4D038AB46 ,  4D038AB47 ,  4D038BB18 ,  4D038BB19 ,  4D040BB25 ,  4D040BB73 ,  4D040BB82 ,  4D061AA08 ,  4D061AB18 ,  4D061AC20 ,  4D061BA06 ,  4D061CA15 ,  4D062BA04 ,  4D062CA02 ,  4D062CA03 ,  4D062CA18 ,  4D062DA02 ,  4D062DA12
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 汚水処理装置の脱リン装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-277323   出願人：西原ネオ工業株式会社
  • 汚水処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-224113   出願人：三洋電機株式会社

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