特許
J-GLOBAL ID:200903017797752237
金属及び酸素に関して非常に高い純度レベルを示す単分散で六角形の窒化硼素及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平2-406201
公開番号(公開出願番号):特開平5-078106
出願日: 1990年12月07日
公開日(公表日): 1993年03月30日
要約:
【要約】【目的】 本発明の目的は、六角形の小板の形を取る結晶化された高純度の窒化硼素の製造と、これらの窒化硼素の製造を可能にする方法である。【構成】 本発明は大きくても0.4μmで、少なくとも99%の純度で、多くても500ppmの金属不純物及びシリコンしか含有しない、六角形で結晶質の小板により構成される窒化硼素に関する。この窒化物は、気相合成又は液体アンモニアをハロゲン化硼素に反応させて得られる窒化硼素に、第一は中性雰囲気中で、次いで第二は真空中で、二重カ焼を行う工程により得られる。
請求項(抜粋):
大きくても0.4μm、少なくても99%の純度及び多くても500ppmの金属不純物及びシリコンを含有する、六角形で結晶質の小板により構成されることを特徴とする窒化硼素。
IPC (5件):
C01B 21/064
, C10M103/00
, C10N 20:06
, C10N 50:08
, C10N 70:00
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭61-256905
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特開昭62-100404
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特開平1-184033
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