特許
J-GLOBAL ID：200903017827422687
超臨界乾燥装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-248672
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087306
出願日： 1997年09月12日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：
【要約】【課題】 洗浄、エッチング、および現像が可能で、パターン倒れ現象を起すことのない超臨界乾燥装置。【解決手段】 撹拌機能を有する回転機構10a、10bにより、洗浄、エッチング、現像の各工程と、超臨界液体供給装置2からの超臨界液体導入による乾燥処理工程とを同一反応槽1内で行う。
請求項（抜粋）：
基板を収容する反応槽と、薬液を貯留する液体タンクと、超臨界液体を前記反応槽に供給する超臨界液体供給装置と、前記反応槽に設けられ前記液体タンクからの薬液を導入する少なくとも1つの薬液導入手段と、前記反応槽に設けられた薬液の排出手段と、前記超臨界液体の排出口と、前記反応槽の液体を撹拌する撹拌手段を備えることを特徴とする超臨界乾燥装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 351
, C23F 1/08
, C23G 3/00
, F26B 5/02
, H01L 21/027
H01L 21/304 351 Z
, C23F 1/08
, C23G 3/00 Z
, F26B 5/02
, H01L 21/30 570
