特許

J-GLOBAL ID：200903017830499720

投影露光装置の基板ホルダの平坦度評価方法

発明者： 金子 謙一郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 前田 均 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-048787
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233430
出願日： 1998年02月13日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ自体の誤差成分の影響が少なく、露光装置のレベリング機能をも考慮した基板ホルダの平坦度評価方法を提供することである。【解決手段】 マスクに形成されたパターン像を基板ホルダに載置したウエハ上に投影光学系を介して転写する投影露光装置の基板ホルダの平坦度評価方法である。複数枚のウエハNo.1〜nを順次交換しつつ、その表面の複数の測定点でZ位置情報を測定して、互いに対応する測定点のZ位置情報の平均値の最大と最小の差により平坦度を評価する。ウエハ自体の平坦度等の誤差成分が平均化効果によって除去される。また、ウエハ表面の複数の測定点でZ位置情報を測定して、これらに基づき平均面を求め、この平均面を基準として基板ホルダの平坦度を評価する。実際の露光処理時にレベリング機能により除去される成分が除去され、より現実に即した評価を行うことができる。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターン像を基板ホルダに載置した感光基板上に投影光学系を介して転写する投影露光装置の該基板ホルダの平坦度評価方法であって、前記基板ホルダに複数の感光基板を順次載置し、それぞれの感光基板について、複数の測定点で該感光基板の表面の前記投影光学系の光軸方向の位置情報を測定して第1データとし、該感光基板間で互いに対応する測定点についての第1データの平均値を求めて第2データとし、該第2データに基づいて前記基板ホルダの平坦度を評価することを特徴とする平坦度評価方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

H01L 21/30 526 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 503 D