特許
J-GLOBAL ID：200903017831972144
パターン転写装置、パターン転写方法およびプログラム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-130833
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335808
出願日： 2003年05月08日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】被転写体の歪みに合わせて転写パターンを補正することができ、被転写体との重ね合わせ精度を向上させることができるパターン転写装置、パターン転写方法およびプログラムを提供する。【解決手段】被転写体12に対するモールド20の姿勢を制御して、モールド20のパターンを押圧した際に得られる転写パターンを変位させることが可能となっている。このモールド20の姿勢としては、モールド20を任意のオイラー角により回転させて達成することにより、全ての姿勢が得られる。このような姿勢をもってモールド20を被転写体12に対し押圧することにより、モールド20のパターンを被転写体12に投影させたのと実質的に等しい転写パターンが得られる。従って、被転写体12の下地のチップのパターンの歪み、例えば非直交性やX,Y方向の倍率差をもった歪みに追従した転写パターンが得られる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
モールドに形成されたパターンを被転写体に押圧して、転写するパターン転写装置であって、
被転写体に対するモールドの姿勢を制御して、前記モールドのパターンを押圧した際に得られる前記転写パターンを変位させる姿勢制御手段と、
前記被転写体に対し前記モールドを前記姿勢をもって押圧する押圧手段と
を有するパターン転写装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B41F16/00 J
