特許

J-GLOBAL ID：200903017839363961

イオンビーム加工装置

発明者： 岩崎 浩二
出願人/特許権者： セイコーインスツルメンツ株式会社
代理人 (1件)： 林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-121270
公開番号（公開出願番号）：特開平10-074737
出願日： 1988年01月11日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】 有機化合物ガス吹付けのためのノズルを備えた集束イオンビーム加工装置において、有機化合物がノズルの孔に詰まらせることがあった。【解決手段】 ノズルの孔にガス成分が吸着するのを防止するために、ノズル部に、ノズルを加熱するヒータを設け、ガス成分の吸着を防止する。

請求項（抜粋）：

試料に集束イオンビームを照射するイオンビーム照射系と、前記試料を載置し、X-Y-Z方向に駆動する試料台と、前記集束イオンビームの照射位置に有機化合物ガスを吹き付けるノズルを備えたガス吹付装置と、前記ノズルの孔の詰まりを防止するためのノズル近傍に備えられたヒータとからなることを特徴とするイオンビーム加工装置。

IPC (9件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/48 ,  C23F 4/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/3205

FI (9件)：

H01L 21/302 D ,  C23C 16/48 ,  C23F 4/00 C ,  G21K 5/04 A ,  H01J 37/305 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/66 C ,  H01L 21/88 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-229956
  
• 特開昭61-004231