特許

J-GLOBAL ID：200903017840152974

放射線感光材料及びパタ-ンの形成方法

発明者： 矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  並木 崇久 ,  野崎 耕司 ,  小沢 美和 ,  今 純一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065290
公開番号（公開出願番号）：特開2000-035664
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】 放射線感光材料及びその放射線感光材料を用いたパターン形成方法に関し、露光部と未露光部とにおける現像液に対する溶解速度の差を向上しうる放射線感光材料及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 被膜形成性の重合体よりなる基材樹脂と、感光剤と、一般式【化40】(式中、R1は炭素数2〜30の原子団を表し;R2は水素、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基又は炭素数1〜10のハロアルキル基を表し;nは2〜8の整数を表し;mは1〜6の整数を表す。)で示されるラクトン誘導体化合物と、基材樹脂、感光剤及びラクトン誘導体化合物を溶解する溶剤とを有するように構成する。

請求項（抜粋）：

被膜形成性の重合体よりなる基材樹脂と、感光剤と、一般式【化1】(式中、R1は炭素数2〜30の原子団を表し;R2は水素、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基又は炭素数1〜10のハロアルキル基を表し;nは2〜8の整数を表し;mは1〜6の整数を表す。)で示されるラクトン誘導体化合物と、前記基材樹脂、前記感光剤及び前記ラクトン誘導体化合物を溶解する溶剤とを有することを特徴とする放射線感光材料。

IPC (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-312722   出願人：富士通株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-097155   出願人：住友化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-110414   出願人：住友化学工業株式会社
• 特開昭62-151846