特許

J-GLOBAL ID：200903017866860560

プラズマ・フォーカス高エネルギ・フォトン・ソース

発明者： ウィリアム ノーマン パートロ
出願人/特許権者： サイマー インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-127187
公開番号（公開出願番号）：特開平10-319195
出願日： 1998年05月11日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ・フォーカス高エネルギ・フォトン・ソースを提供する。【解決手段】 高エネルギ・フォトン・ソース。プラズマ・ピンチ電極の対が真空チャンバに配置されている。作動ガス供給装置は、希バッファ・ガスと、所望のスペクトル線を作り出すために選択された活性ガスとを含む作動ガスを供給する。パルス電源は、少なくとも100Hzの周波数、且つ、活性ガスのスペクトル線での放射を提供する作動ガスに非常に高温で高密度のプラズマ・ピンチを作り出すための電極の間に放電を生成するのに十分な高電圧で電気的パルスを提供する。外部反射放射収集器-導波器が、プラズマ・ピンチで作り出された放射を収集し、放射を所望の方向に差し向ける。好ましい実施形態では、活性ガスはリチウムであり、バッファ・ガスはヘリウムであり、放射-収集器は電極に使用される材料で被覆されている。その材料は、タングステンである。

請求項（抜粋）：

A.真空チャンバと、B.前記真空チャンバ内に位置決めされ、放電領域を構成し、放電の際に高周波プラズマ・ピンチを生成するために配置された、少なくとも2つの電極と、C.希ガスであるバッファガス及び少なくとも1つの光スペクトル線を作るために選択される活性ガスを有する作動ガスと、D.前記作動ガスを前記放電領域に供給するための作動ガス供給装置と、E.少なくとも100Hzの周波数であり、前記電極の少なくとも1対の間に放電を生成するのに十分な高電圧の電気的パルスを与えるためのパルス電源と、F.前記プラズマ・ピンチで作り出される放射を収集し、所望の方向に前記放射を差し向けるための外部の反射放射収集-導波器と、を有する高エネルギ・フォトン・ソース。

IPC (6件)：

G21K 5/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H05H 1/24

FI (6件)：

G21K 5/00 Z ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/30 515 A