特許

J-GLOBAL ID：200903017873504434

イオンビームによる試料加工装置

発明者： 野村 節生 ,  広瀬 博
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-322720
公開番号（公開出願番号）：特開平9-161712
出願日： 1995年12月12日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】FIBによる加工中に、加工を中断することなく試料の状態をSEMで観察できるFIB加工装置を提供する。【解決手段】イオンビーム,電子ビーム,荷電粒子走査器,反射電子検出装置,制御電源,ディスプレーよりなる。【効果】FIBによる加工中に、加工の進行する様子を顕微像として監視できるようになった。その結果、加工の進行に不具合があれば、直ちに、加工条件を修正することができるようになり、加工結果の歩留まりが100%に向上した。

請求項（抜粋）：

イオンビームによって試料を加工する装置において、電子ビームを前記試料に照射することによって発生する電子を検出することで試料を観察する観察手段を備え、該観察手段は前記電子ビームを試料に照射することで生ずる電子ビームの反射電子を選択し検出する手段を備えたことを特徴とするイオンビームによる試料加工装置。

IPC (5件)：

H01J 37/30 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/3205

FI (5件)：

H01J 37/30 Z ,  H01J 37/28 Z ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/88 B