特許

J-GLOBAL ID：200903017878614270

レジスト洗浄除去用溶剤

発明者： 河辺 保雅 ,  石井 渡
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-004290
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195337
出願日： 1995年01月13日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【構成】 プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネートを含有することを特徴とするレジスト洗浄除去用溶剤及びスピンナーによりレジストを基板表面上に塗布し、次いで、該基板の裏面及びエッジ部に付着した不要のレジストを上記洗浄除去用溶剤であらかじめ除去したのち乾燥処理することを特徴とする電子部品製造用基材の製造方法。【効果】 レジストの溶解性が特に優れ、毒性がなく、作業安全性が高く、また、エッジ部レジストの形状が滑らかで、しかも膜厚を一定に保つという顕著な効果を有するレジスト洗浄除去用溶剤を提供し、また高品質の電子部品製造用基材を簡単に効率良く製造する。

請求項（抜粋）：

プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネートを含有することを特徴とするレジスト洗浄除去用溶剤。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/38 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 E ,  H01L 21/30 577